Управление режимом работы вакуумно-дугового источника плазмы
Интерес, проявленный к дуговому разряду в вакууме, вызван возможностью его применения для решения различных технологических задач: получения металлических и комбинированных покрытий, а также для обработки поверхности, что позволяет удалять поверхностные загрязнения. Эмиссия в таком разряде происходит в основном из катодных пятен, которые хаотично движутся по катоду. Их скорость передвижения, а также количество сильно зависят от поверхностных свойств и материала, из которого изготовлен катод. Важнейшей целью при разработке устройств для удаления поверхностного загрязнения служит управляемая природа движения и надежная фиксацией катодных пятен. В статье показана возможность управления режимом работы плазменного источника, позволяющая за счет правильного выбора его конструкции и основных параметров, перевести его из режима получения покрытий в режим очистки поверхности материала. В результате поверхностной активации плазмой возникает пассивирующая пленка, которая защищает слой металла от коррозии, а сама поверхность становится сильно адгезивной.
Авторы: Д. К. Кострин
Направление: Физика
Ключевые слова: Вакуумно-дуговой разряд, эмиссия, катодные пятна, нанесение покрытий, очистка поверхности
Открыть полный текст статьи