Напыление пленок сплава M₁xM₂(1–x)

Проанализирован процесс напыления пленок двойного сплава M₁xM₂(1–x) с помощью магнетрона, оснащенного новым двухслойным распыляемым узлом. Внутренняя пластина узла, изготовленная из металла M₂, эффективно охлаждалась проточной водой и распылялась через прорези во внешней пластине из металла M₁, которая работает в горячем режиме. Две прорези, расположенные симметрично в кольцевой зоне распыления внешней пластины, имели форму секторов кольца. Выполненный анализ потоков атомов металлов, которые генерировал распыляемый узел, позволил установить, что при изменении относительной площади прорезей от 0 до 1 стехиометрический коэффициент x пленки M₁xM₂(1–x) мог изменяться от 1 до 0. Результаты анализа были использованы для изучения влияния ток разряда и угла сектора кольца на химический состав пленки сплава Ta_xTi_1–x. Установлено, что при токе разряда меньше 6 А испарение танталовой пластины незначимо и стехиометрический коэффициент в химической формуле пленки не зависел от тока разряда. Влияние на состав пленки угла сектора кольца задавала простая функция. Показано, что выполненный анализ дал возможность изучать влияние независимых переменных процесса распыления на физико-химические свойства пленок. Для примера установлено влияние угла сектора кольца на износостойкость пленки Ta_xTi_1–x.

Авторы: Н. М. Иванов, В. И. Шаповалов, Д. С. Шарковский

Направление: Физика

Ключевые слова: магнетрон, распыление, распыляемый узел, пленка, сплав, тантал, титан

---

Открыть полный текст статьи