Влияние температуры отжига на термохромные свойства пленок оксида вольфрама
Статья посвящена изучению термохромных свойств пленок оксида вольфрама, осажденных на подложки из кварцевого стекла методом реактивного магнетронного распыления на постоянном токе. Новизна заключается в изучении влияния отжига в вакууме на дисперсию оптических констант. После осаждения аморфные пленки WO3–x обладали низким поглощением в видимом диапазоне длин волн. В результате отжига в вакууме при температуре 600 °С и более в спектрах пропускания образцов возникла широкая полоса поглощения с максимумом в области 900…920 нм, вследствие чего пленки приобрели синий цвет. Термохромизм в пленках WO3–x возник вследствие формирования в их аморфной матрице фазы водородо-вольфрамовой бронзы, которая приобрела экстремум. Установлено, что дисперсию показателя поглощения пленок в ближнем ИК-диапазоне адекватно описывается распределением Брейта–Вигнера. Использование этого распределения позволило установить, что при увеличении температуры отжига степень изменения показателя поглощения возрастает нелинейно, уменьшение уширения спектральной линии имеет насыщение, асимптотическое значение дисперсии показателя преломления уменьшается примерно пропорционально температуре отжига.
Авторы: М. О. Иванцов, В. И. Шаповалов
Направление: Физика
Ключевые слова: реактивное магнетронное распыление, термохромизм, оксид вольфрама, вакуумный отжиг
Открыть полный текст статьи