Влияние искажений топологии пленочных проводников электростатического узла на степень однородности формируемого электрического поля
Фотолитография является одним из самых распространенных технологических процессов для формирования заданной топологии пленочных проводников на плоской поверхности. Однако в случае необходимости получения рисунка в пленочных проводниках на криволинейной поверхности, например на внутренней стенке стеклянного цилиндра, возникают значительные затруднения, которые в итоге сказываются на воспроизводимости технологического процесса и выходе годных изделий. В статье рассматриваются вопросы формирования заданной топологии пленочных проводников на примере электростатического узла отклонения электронного луча, выполненного из стекла и имеющего форму цилиндра. Сравниваются особенности получаемой топологии, выполненной с применением фотолитографии и при испарении пленки со стеклянной поверхности серией лазерных импульсов. Проводится оценка влияния искажения ширины изолирующего зазора между пленочными электродами на степень однородности формируемого электростатического отклоняющего поля. Полученные результаты дают возможность задавать технологические допуски при организации производства подобных пленочных узлов радиоэлектронной аппаратуры (РЭА).
Авторы: Д. А. Герасимов, В. А. Тупик
Направление: Электротехника
Ключевые слова: Пленочные электростатические узлы, уравнения Лапласа, искажение топологии, лазерная литография
Открыть полный текст статьи